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公司地址：江苏省淮安市清江浦区清浦工业园枚皋路7号
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产品信息
简介型号：ABN-MLM-001.无掩膜光刻系统利用计算机生成的数字掩模图形 ，并通过声光调制器（AOM）输出，经过声光扫描器和反射镜将光束引导至光学投影系统。系统将高精度 、强度可调的激光束投射到晶圆或掩模板的表面 ，实现对抗蚀材料的可变剂量曝光 。激光束根据预设的设计图形直接对基片表面进行曝光，显影后在抗蚀层上形成所需的图案 。这种技术无需传统的物理掩模，因此大大缩短了制作周期 ，同时降低了设计和生产成本。尤其是在快速迭代设计的场景中，显现出极大的灵活性和效率。通过计算机控制 ，可以实现亚微米级别的精确加工 ，适用于微纳米结构制造 。 -
产品参数/特点
无掩膜光刻技术广泛应用于以下领域：
· 大规模集成电路（IC）掩模版制作：实现高精度、快速迭代的掩模版设计与制作 。
· 微纳加工：适用于MEMS（微机电系统）元件的精密图形写入。
· LED产业 ：在高精度LED芯片设计与制造中具有重要作用。
· 生物芯片 ：用于生物芯片中微结构的快速成像与制备。
相较于传统掩膜光刻技术 ，无掩膜光刻系统具有更高的灵活性、更短的开发周期以及更低的运营成本，使其成为现代微纳制造中的重要工具之一。
设备技术指标 ：
•工作波长：405 nm
• 激光功率：最大300mW
• 分辨率 ：0.3 μm
• 对准精度：正面0.1μm（1mm图形范围内)，背面1um(2.5寸)
• 扫描速度：3-150 mm²/min
• 样品尺寸：最大 8英寸
• 具有灰度曝光功能
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